재료라이센스

분말소재의 제조 및 응용에 관한 핵심기술 개발

재료 분야 이전 가능 기술이랍니다. 보유기관·이전유형·조건과 기술 개요를 살피고, 중소기업의 기술도입·사업화 및 기술보장 연계 검사에 활용하세요.

기술 개요

본 과제는 분말을 제조하는 액상반응법의 핵심이 되는 기술을 선별하여 다음과 같은 분말소재의 제조기술을 개발하는데 최종 목표를 두었다. (1) 저압수열합성법에 의한 α-Al2O3(corundum) 단결정분말 (2) 형광체용 희토류산화물 (Eu2O3, Y2O3) (3) 액상법에 미립, 초미립 금속분말 (Ni, Cu, 귀금속) (4) 진공용해에 의한 금속간 화합물 분말. (5) RF plasma를 이용한 분말의 표면개질. 1차년인 당해연도에는 전반적인 문헌조사를 수행하여 기초이론을 확립하였다. 수열합성장치, 다단 mix-settler, 진공용해용 아크爐를 구매 또는 설계, 제작하였다. 수열합성연구에서는 수산화알루미늄을 원료로 사용하여 약 400℃, 20% 이내의 수분 충전율, 280atm이내의 증기압하에서 2시간

기술 정보

기술분류재료 · 기타 세라믹재료
보유기관한국생산기술연구원
개발상태기술개발완료
이전유형라이센스
이전조건협의 후 결정
키워드분말소재, 액상반응법, 저압수열합성법, 진공용해, 표면개질

한국산업기술진흥원(KIAT) 국가기술은행(NTB) 공개 데이터 기반 자동 정리 정보입니다. 이전 조건·세부사항은 보유기관 확인이 필요합니다.

같은 분야 기술

폭발 방사 현상과 휴대 X-ray 튜브특허법인충정 에피 칩 색층분석특허법인충정 방목 조사 Mossbauer 분광학특허법인충정 PECVD법에 의한 농도구배(concentration gradient) (Ti,Al)N 경질박막 제조한국생산기술연구원 ECR 플라즈마 화학증기증착(CVD)를 이용한 저응력.고투광성 박막제조기술한국생산기술연구원 화합물 반도체 광소자 에피웨이퍼 생산기술한국생산기술연구원