기술 개요
RF 마그네트론 스퍼터링법으로 낮은 비저항과 가시광 영역에서 높은 광투과도를 갖는 AZO투명 도전막을 제조하고 타겟내의 Al2O3 첨가량, 기판온도, RF 출력, 분위기압 등 제조조건에 따릉 AZOakr의 구조적, 전기적, 및 광학적 특성을 조사하였다.투명도전막으로서의 최적조건은 3wt%의 Al2O3가 첨가된 타겟으로 기판온도 150도, 분위기압 2mTorr, RF 출력 150W였으며 이때 AZO막의 비저항 및 캐리어논도는 각각 4.710-4cm 및 7.51020cm-3이었다. 두께가 1500인 AZO막의 경우 550nm에서 광투과율은 90%이상이었다. AZO막의 비저항 및 광투과율은 Hall이동도와 캐리어농도 뿐만 아니라 막막의 미시구조에 의해서도 영향을 받음을 알수 있었다.
기술 정보
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