재료기술지도

저온 플라즈마를 이용한 표면처리 및 박막코팅

재료 분야 초창기 가능 기술이랍니다. 보유기관·이전유형·조건과 기술 개요를 살피고, 중소기업의 기술도입·사업화 및 기술보장 연계 확인에 활용하세요.

기술 개요

저온 플라스마는 부분적으로 이온화된 기체로서, 전기적 방전(D.C., A.C., A.F., R.F., Microwave)을 이용하면 손쉽게 발생시킬 수 있다. 저온 플라스마는 일반적으로 널리 알려진 플라스마(고온 플라스마 또는 열 플라스마)와는 달리 이온 농도가 매우 낮으나(10-5~10-6정도) 평균온도가 상온에서 크게 벗어나지 않고 높은 농도의 Free Radical과 같은 반응기들을 포함하고 있어 각종 소재들의 표면처리와 고분자 박막 코팅에 효율적으로 이용될 수 있다.이러한 저온 플라스마를 이용하는 저온 플라스마 공정은 주로 다음과 같은 분야에 응용된다. o 각종 소재들의 친수성 및 소수성 향상 o 각종 소재들의 접착성 향상 o 금속, 광학부품, 플라스틱 소재들의 부식방지 및 내약품성 향상 o 금속 및

기술 정보

기술분류재료 · 구조·열기능재료
보유기관한국기술거래(주)
개발상태기타
이전유형기술지도
이전조건협의 후 결정
응용분야소재들의 친수성 및 소수성 향상
키워드저온 플라즈마, 표면처리, 박막코팅, 플라스마 중합, 부식방지, 내약품성

한국산업기술진흥원(KIAT) 국가기술은행(NTB) 공개 데이터 기반 자동 정리 정보입니다. 이전 조건·세부사항은 보유기관 확인이 필요합니다.

같은 분야 기술

폭발 방사 현상과 휴대 X-ray 튜브특허법인충정 에피 칩 색층분석특허법인충정 방목 조사 Mossbauer 분광학특허법인충정 PECVD법에 의한 농도구배(concentration gradient) (Ti,Al)N 경질박막 제조한국생산기술연구원 ECR 플라즈마 화학증기증착(CVD)를 이용한 저응력.고투광성 박막제조기술한국생산기술연구원 화합물 반도체 광소자 에피웨이퍼 생산기술한국생산기술연구원