반도체 공정에서의 이탈 처리 자동 분석 시스템

기술 개요

'90 년대 후반기에 들어서 세계 반도체 시장은 급격한 변화를 겪고 있다. 기존 업체의 대규모 설비 증설과 신규 업체들의 연이은 시장 진입에 의한 DRAM의 공급 과잉으로 더욱 치열한 가격 경쟁을 벌이게 되는 등 위기 의식이 고조되고 있는 현실이다. 이에 따라 반도체 디바이스의 회로 패턴은 미세화, 고집적화가 그리고 생산 현장에 있어서는 보다 높은 생산 수율이 요구되고 있다. 현재 약 440 여개에 이르는 단위 공정을 갖는 16메가 DRAM은 각 생산 공정이 끝나는 즉시 계측 공정을 통하여 엄격한 품질 관리를 실시한다. 이러한 품질관리를 통하여 불량률을 낮추고 높은 수율을 목표로 한다. 현재 반도체 산업현장에서는 이탈이 발생하였을 경우 숙련된 엔지니어의 판단에 전적으로 의존하고 있다. 그러나 현재 우리나라

기술 정보

한국산업기술진흥원(KIAT) 국가기술은행(NTB) 공개 데이터 기반 자동 정리 정보입니다. 이전 조건·세부사항은 보유기관 확인이 필요합니다.

같은 분야 기술

환경안전을 위한 유독 가스에 의한 금속산화물 검출을 위한 복합반도체장치 시스템특허법인충정 핵자기공명과 방사 흡수에 근거한 석유 탐사를 위한 특수 장치의 시험 투사특허법인충정 해양 수면하층의 원거리 센싱을 위한 새로운 방법특허법인충정 항공중력계특허법인충정 평탄 표면, 박막의 두께, 밀도와 합성을 제어하기 위한 X-ray 반사계특허법인충정 커패스티 게이지를 이용한 기체흐름과 음향 분야에서 표면 압력의 비회피적 비투과 측정특허법인충정