기술 개요
반도체 의식각에 사용될 목적으로 최근 수년간 개발이 급진전된 고밀도 플라즈마 발생 원리와 이를 응용한 장치들이 다른 분야로 그 응용의 폭을 넓혀 가고 있다.본 연구실에서는 이중 Inductively Coupled Plasma를 선택하여 magnetron sputtering system에 적용한 ICP - PVD (Ionization enhanced magnetron sputtering) system을 설계 제작하여 플라즈마의 정밀한 제어및 이온 플럭스의 획기적인 증대로 일반적인 magnetron sputtering system에서는 불가능했던 서브 미크론 반도체 소자에서 좁고 깊은 트렌치의 채워넣기, 고효율의 금속 및 화합물의 이온 플레이팅, 더 낮은 기판 온도에서 화합물 박막의 증착이 가능해졌다.와 같은
기술 정보
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