개요
써미스터 타겟 제조 (Mn-Ni계와 Mn-Co-Ni계 산화물 조성의 2" 크기)써미스터 박막 제조 기술개발 및 특성 분석박막 써미스터 소자설계최적 제조공정 및 시작품 (1608 및 2012 크기의 표면실장용 칩형 박막 써미스터)Size : 2012,1608 R25 = 5~50kΩ ㅠ25/85 = 3200 ~ 4300K열방산정수 : 3.2mW/℃ (2012), 1.1mW/℃ (1606)열시정수 : 4.8 sec (2012), 3.6 sec (1608)강한 상품화 의지를 가진 기업체가 유리극소형화, 고응답성, 고정성, 고신뢰성 등의 특성이 기대, 온도센싱 및 회로의 온도 보상 등의 목적으로 전 산업분야에 걸쳐 활용기대, 기존의 써미스터를 대체하여 새로운 수요창출
상세 안내
이 기술은 통신 무선·이동통신 분야에 속하며, 세부 분류는 기타 무선·이동통신입니다. 기술 개발 상태는 기술개발완료이고, 이전 여부는 미이전입니다. 희망 거래방식은 M&A이며, 이전 조건은 협의 후 결정입니다. 기술 상세 설명은 다음과 같습니다. 써미스터 타겟 제조 (Mn-Ni계와 Mn-Co-Ni계 산화물 조성의 2" 크기)써미스터 박막 제조 기술개발 및 특성 분석박막 써미스터 소자설계최적 제조공정 및 시작품 (1608 및 2012 크기의 표면실장용 칩형 박막 써미스터)Size : 2012,1608 R25 = 5~50kΩ ㅠ25/85 = 3200 ~ 4300K열방산정수 : 3.2mW/℃ (2012), 1.1mW/℃ (1606)열시정수 : 4.8 sec (2012), 3.6 sec (1608)강한 상품화 의지를 가진 기업체가 유리극소형화, 고응답성, 고정성, 고신뢰성 등의 특성이 기대, 온도센싱 및 회로의 온도 보상 등의 목적으로 전 산업분야에 걸쳐 활용기대, 기존의 써미스터를 대체하여 새로운 수요창출
상세 내용
기술 상세설명
써미스터 타겟 제조 (Mn-Ni계와 Mn-Co-Ni계 산화물 조성의 2" 크기)써미스터 박막 제조 기술개발 및 특성 분석박막 써미스터 소자설계최적 제조공정 및 시작품 (1608 및 2012 크기의 표면실장용 칩형 박막 써미스터)Size : 2012,1608 R25 = 5~50kΩ ㅠ25/85 = 3200 ~ 4300K열방산정수 : 3.2mW/℃ (2012), 1.1mW/℃ (1606)열시정수 : 4.8 sec (2012), 3.6 sec (1608)강한 상품화 의지를 가진 기업체가 유리극소형화, 고응답성, 고정성, 고신뢰성 등의 특성이 기대, 온도센싱 및 회로의 온도 보상 등의 목적으로 전 산업분야에 걸쳐 활용기대, 기존의 써미스터를 대체하여 새로운 수요창출
주요 항목
기술 정보, 이렇게 활용하세요
신기술 도입이나 사업화를 검토하는 중소기업은 이 기술의 분야·이전 조건을 확인해 R&D 부담을 줄이고 기술이전 협력을 추진하는 데 활용할 수 있습니다. 기술 도입·이전·사업화를 검토하는 중소기업이 참고하는 기술 정보입니다. 보유·도입 가능 기술의 분야와 조건을 파악해 R&D·사업화 전략에 활용됩니다.
- 도입 기술은 자사 생산공정·제품과의 적합성을 먼저 검토하세요.
- 기술보증·기술이전 지원사업과 연계하면 사업화 부담을 줄일 수 있습니다.
- 특허·인증 등 권리 관계를 확인하세요.
자주 묻는 질문
기술시장 거래정보는 어떻게 활용하나요?
도입·이전 가능한 기술의 분야·조건을 파악해 R&D·사업화 전략 수립과 기술 협력처 탐색에 활용합니다.
기술 도입 시 무엇을 확인해야 하나요?
자사 생산공정·제품과의 적합성, 특허·인증 등 권리관계, 사업화 비용을 함께 검토하고 기술보증·기술이전 지원사업과 연계하세요.
데이터 출처와 신뢰도는 어떻게 되나요?
공공데이터포털(data.go.kr)의 정부·공공기관 원천 데이터를 매일 자동 갱신해 제공합니다. 세부 사항은 원문에서 확인하세요.
기술시장 거래정보 공공데이터(data.go.kr)를 기반으로 작성된 정보입니다.