개요
유기금속 화학기상 에피성장법(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition; MOCVD)은 1970년대 말 화합물 반도체 이종접합 구조를 에피성장시키기 위하여 개발되기 시작한 후 현재까지의 약 20년간 비약적인 발전을 거듭하여 다양한 화합물 반도체 소자를 제작하는데 사용되고 있다.현재 국내에서는 삼성(종합기술원, 전기, 전자), LG(중앙연구소, 전자), 현대전자, 삼미, 광전자, 국제 등의 화합물 반도체 소자 생산사에서는 MOCVD 방법으로 소자 구조를 에피성장하거나 혹은 MOCVD로 성장된 에피웨이퍼를 이용하여 다양한 광소자를 생산하고 있으며 연구소에서의 연구 결과를 대량생산으로 확대하는 작업을 하고 있다. 아울러, 전자통신연구소, KIST, 표준연구소 등의 연구진들도 MOCVD를 이용한 광소자 제작 연구를 수행하고 있다. 현재 국내에는 10개 이상의 대량 생산용 MOCVD 에피성장로와 10개 이상의 연구용 MOCVD 에피성장로가 있으나 거의 대부분 미국의 EMCORE, 독일의 AIXTRON, 일본의 Nippon Sanso, 영국의 Thomas Swan 등의 장치를 수입하여 사용하고 있다. 각 에피성장 장치는 5억 10억의 고가 장비이나 국내에서의 MOCVD reactor 생산 기술이 미흡하여 많은 비용을 외국사에 지출하고 있는 실정이다. 본 연구진은 지난 10년 이상 MOCVD 에피성장에 관한 연구를 수행하고 있으며 또한 3대의 MOCVD reactor를 제작한 경험을 바탕으로 외국사 제품에 뒤떨어지지 않는 reactor를 제작할 수 있다. 조만간 화합물 반도체 소자의 수요가 급격히 증가할 것이며 국내의 MOCVD reactor 수요도 이와 함께 급격히 증가할 것이 기대되는 현 시점에서 국내의 기업과 공동 연구 개발로 1년 내에 연구용 MOCVD reactor의 국산화를 거쳐 3년 내에 대량생산용 reactor의 국산화 작업을 완료할 수 있을 것으로 기대한다.
상세 안내
이 기술은 재료 고분자재료 분야에 속하며, 세부 분류는 전기·전자기 기능재료입니다. 기술 개발 상태는 기타이고, 이전 여부는 미이전입니다. 희망 거래방식은 기술지도이며, 이전 조건은 협의 후 결정입니다. 기술 상세 설명은 다음과 같습니다. 유기금속 화학기상 에피성장법(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition; MOCVD)은 1970년대 말 화합물 반도체 이종접합 구조를 에피성장시키기 위하여 개발되기 시작한 후 현재까지의 약 20년간 비약적인 발전을 거듭하여 다양한 화합물 반도체 소자를 제작하는데 사용되고 있다.현재 국내에서는 삼성(종합기술원, 전기, 전자), LG(중앙연구소, 전자), 현대전자, 삼미, 광전자, 국제 등의 화합물 반도체 소자 생산사에서는 MOCVD 방법으로 소자 구조를 에피성장하거나 혹은 MOCVD로 성장된 에피웨이퍼를 이용하여 다양한 광소자를 생산하고 있으며 연구소에서의 연구 결과를 대량생산으로 확대하는 작업을 하고 있다. 아울러, 전자통신연구소, KIST, 표준연구소 등의 연구진들도 MOCVD를 이용한 광소자 제작 연구를 수행하고 있다. 현재 국내에는 10개 이상의 대량 생산용 MOCVD 에피성장로와 10개 이상의 연구용 MOCVD 에피성장로가 있으나 거의 대부분 미국의 EMCORE, 독일의 AIXTRON, 일본의 Nippon Sanso, 영국의 Thomas Swan 등의 장치를 수입하여 사용하고 있다. 각 에피성장 장치는 5억 10억의 고가 장비이나 국내에서의 MOCVD reactor 생산 기술이 미흡하여 많은 비용을 외국사에 지출하고 있는 실정이다. 본 연구진은 지난 10년 이상 MOCVD 에피성장에 관한 연구를 수행하고 있으며 또한 3대의 MOCVD reactor를 제작한 경험을 바탕으로 외국사 제품에 뒤떨어지지 않는 reactor를 제작할 수 있다. 조만간 화합물 반도체 소자의 수요가 급격히 증가할 것이며 국내의 MOCVD reactor 수요도 이와 함께 급격히 증가할 것이 기대되는 현 시점에서 국내의 기업과 공동 연구 개발로 1년 내에 연구용 MOCVD reactor의 국산화를 거쳐 3년 내에 대량생산용 reactor의 국산화 작업을 완료할 수 있을 것으로 기대한다.
상세 내용
실용화 분야
다양한 형태의 유기금속(organometallics)으로 제조할 수 있다는 장점을 가져 화합물 반도체 이외에 초전도체, 유전체, 금속 등 다양한 재료의 박막층을 제조하는데 사용
기술 상세설명
유기금속 화학기상 에피성장법(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition; MOCVD)은 1970년대 말 화합물 반도체 이종접합 구조를 에피성장시키기 위하여 개발되기 시작한 후 현재까지의 약 20년간 비약적인 발전을 거듭하여 다양한 화합물 반도체 소자를 제작하는데 사용되고 있다.현재 국내에서는 삼성(종합기술원, 전기, 전자), LG(중앙연구소, 전자), 현대전자, 삼미, 광전자, 국제 등의 화합물 반도체 소자 생산사에서는 MOCVD 방법으로 소자 구조를 에피성장하거나 혹은 MOCVD로 성장된 에피웨이퍼를 이용하여 다양한 광소자를 생산하고 있으며 연구소에서의 연구 결과를 대량생산으로 확대하는 작업을 하고 있다. 아울러, 전자통신연구소, KIST, 표준연구소 등의 연구진들도 MOCVD를 이용한 광소자 제작 연구를 수행하고 있다. 현재 국내에는 10개 이상의 대량 생산용 MOCVD 에피성장로와 10개 이상의 연구용 MOCVD 에피성장로가 있으나 거의 대부분 미국의 EMCORE, 독일의 AIXTRON, 일본의 Nippon Sanso, 영국의 Thomas Swan 등의 장치를 수입하여 사용하고 있다. 각 에피성장 장치는 5억 10억의 고가 장비이나 국내에서의 MOCVD reactor 생산 기술이 미흡하여 많은 비용을 외국사에 지출하고 있는 실정이다. 본 연구진은 지난 10년 이상 MOCVD 에피성장에 관한 연구를 수행하고 있으며 또한 3대의 MOCVD reactor를 제작한 경험을 바탕으로 외국사 제품에 뒤떨어지지 않는 reactor를 제작할 수 있다. 조만간 화합물 반도체 소자의 수요가 급격히 증가할 것이며 국내의 MOCVD reactor 수요도 이와 함께 급격히 증가할 것이 기대되는 현 시점에서 국내의 기업과 공동 연구 개발로 1년 내에 연구용 MOCVD reactor의 국산화를 거쳐 3년 내에 대량생산용 reactor의 국산화 작업을 완료할 수 있을 것으로 기대한다.
주요 항목
기술 정보, 이렇게 활용하세요
신기술 도입이나 사업화를 검토하는 중소기업은 이 기술의 분야·이전 조건을 확인해 R&D 부담을 줄이고 기술이전 협력을 추진하는 데 활용할 수 있습니다. 기술 도입·이전·사업화를 검토하는 중소기업이 참고하는 기술 정보입니다. 보유·도입 가능 기술의 분야와 조건을 파악해 R&D·사업화 전략에 활용됩니다.
- 도입 기술은 자사 생산공정·제품과의 적합성을 먼저 검토하세요.
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자주 묻는 질문
기술시장 거래정보는 어떻게 활용하나요?
도입·이전 가능한 기술의 분야·조건을 파악해 R&D·사업화 전략 수립과 기술 협력처 탐색에 활용합니다.
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데이터 출처와 신뢰도는 어떻게 되나요?
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